真空电镀是一种物理沉积现象。即在真空状态下注入氩气，氩气撞击靶材，靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层。
对于传统的湿发电镀，真空电镀具有以下优点：
1.沉积材料广泛
可沉积铝、钛、锆等湿法电镀无法沉积的低电位金属，通以反应气体和合金靶材更是可 以沉积从合金到陶瓷甚至是金刚石的涂层，而且可以根据需要设计涂层体系。
2.节约金属材料
由于真空涂层的附着力、致密度、硬度、耐腐蚀性能等相当优良，沉积的镀层可以远远 小于常规湿法电镀镀层，达到节约的目的.
3.无环境污染
由于所有镀层材料都是在真空环境下通过等离子体沉积在工件表面，没有溶液污染，所以 对环境的危害相当小.
但是由于获得真空和等离子体的仪器设备精密昂贵，而且沉积工艺还掌握在少数技术人员手中，没有大量被推广，其投资和日常生产维护费用昂贵，但是随着社会的不断进步，真空电镀的优势会越来越明显，在 某些行业取代传统的湿法电镀是大势所趋！
